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HELLER真空炉
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SIPLACE TX 配备全新 CP20 贴装头以及全新的 SIPLACE Xi 智能供料器,再一次刷新了其性能表现。有了新的 SIPLACE 托盘单元和两个固定的高级相机系统,SIPLACE TX 现在也可以用作节省空间的线端机器。
产品详情

  2043MK5-VR 是适合大批量生产需求的真空回流焊炉,具有10个对流区和1红外加热区,总加热长度为430厘米(169 英寸)。大型真空室可容纳长达 500 毫米的电路板,3个冷却区提供 >3°C/sec的冷却速率 – 即使在大型电路板上也是如此。

  HELLER真空回流炉利用位于炉内回流区的真空空,通过可控的抽真空过程(较多可分为5个单独闭环控制的步骤)明显减少了空洞(在大多数应用中<1%),且无焊料溅射。其水平在线式结构完全适合于自动化高产能生产。

  内部介绍

  HELLER先进的机械设计和⾼温密封材料,确保真空⼯况下的良好密封性能。一体成型机加工,精确的成型和加⼯⼯艺确保密封性能和⻓寿命。

  室红外加热缩短液相线上的时间;将真空室加热⾄450°C,在真空室内的峰值时间较短;在真空阶段保持或提⾼产品温度;各种尺⼨产品的温度平衡。真空室内的主动加热可防⽌助焊剂残留物沉淀到EHC和CBS轨道上;⽆需清洁轨道,减少保养⼯作量。

  ⾼达450°C;温度峰值可在真空室内实现;液相线上的时间较短;更⾼的产能;真空多步控制,⼯艺稳定;⽆⻜溅和锡珠缺陷。

  根据助焊剂使用量,HELLER提供各种不同的助焊剂管理系统。这些系统包括基本的风冷和水冷系统选项,以及高阶助焊剂管理系统,例如低温催化剂和助焊剂反应器系统。所有这些系统都提供出色的去除能力,延长了维护间隔,并缩短了所需的维护时间。

  HELLERMK5能够服务于广的产品和应用,为扩展到新业务线提供竞争优势。

  参数

回流炉长度

680厘米

工艺气体选项

空气、氮气、甲酸、合成气体

加热区

对流:10顶部/10底部IR:3顶部

加热长度(对流/总)

327厘米/430厘米

冷却区

3顶部(底部选项)

较高工作温度(对流/红外)

标准:350°C/400°C,可选:400°C/480°C

较小真空度

标准:10Torr选项:<10Torr

较大电路板尺寸

500毫米(长)x450毫米(宽)x29毫米(高)

洁净室选项

低至1000级

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2043MK5-VR 是适合大批量生产需求的真空回流焊炉,具有 10 个对流区和 1红外加热区,总加热长度为 430 厘米(169 英寸)。大型真空室可容纳长达 500 毫米的电路板,3 个冷却区提供 >3°C/sec 的冷却速率 – 即使在大型电路板上也是如此。
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  2043MK5-VR 是适合大批量生产需求的真空回流焊炉,具有10个对流区和1红外加热区,总加热长度为430厘米(169 英寸)。大型真空室可容纳长达 500 毫米的电路板,3个冷却区提供 >3°C/sec的冷却速率 – 即使在大型电路板上也是如此。

  HELLER真空回流炉利用位于炉内回流区的真空空,通过可控的抽真空过程(较多可分为5个单独闭环控制的步骤)明显减少了空洞(在大多数应用中<1%),且无焊料溅射。其水平在线式结构完全适合于自动化高产能生产。

  内部介绍

  HELLER先进的机械设计和⾼温密封材料,确保真空⼯况下的良好密封性能。一体成型机加工,精确的成型和加⼯⼯艺确保密封性能和⻓寿命。

  室红外加热缩短液相线上的时间;将真空室加热⾄450°C,在真空室内的峰值时间较短;在真空阶段保持或提⾼产品温度;各种尺⼨产品的温度平衡。真空室内的主动加热可防⽌助焊剂残留物沉淀到EHC和CBS轨道上;⽆需清洁轨道,减少保养⼯作量。

  ⾼达450°C;温度峰值可在真空室内实现;液相线上的时间较短;更⾼的产能;真空多步控制,⼯艺稳定;⽆⻜溅和锡珠缺陷。

  根据助焊剂使用量,HELLER提供各种不同的助焊剂管理系统。这些系统包括基本的风冷和水冷系统选项,以及高阶助焊剂管理系统,例如低温催化剂和助焊剂反应器系统。所有这些系统都提供出色的去除能力,延长了维护间隔,并缩短了所需的维护时间。

  HELLERMK5能够服务于广的产品和应用,为扩展到新业务线提供竞争优势。

  参数

回流炉长度

680厘米

工艺气体选项

空气、氮气、甲酸、合成气体

加热区

对流:10顶部/10底部IR:3顶部

加热长度(对流/总)

327厘米/430厘米

冷却区

3顶部(底部选项)

较高工作温度(对流/红外)

标准:350°C/400°C,可选:400°C/480°C

较小真空度

标准:10Torr选项:<10Torr

较大电路板尺寸

500毫米(长)x450毫米(宽)x29毫米(高)

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